XUV分光器 maxLIGHT pro

maxLIGHTは、スリットレス設計により、業界最高クラスの集光性能と効率を実現します。収差補正されたフラットフィールド波長範囲は1nm~200nmで、個々のグレーティングあたり5~80nmといった広範なスペクトル帯域幅を備えています。

モジュール設計により、様々な実験形状や構成に対応します。maxLIGHTは、スリットホルダーとフィルター挿入ユニットを一体化し、電動グレーティングポジショニング機能も備えています。

検出器オプションには、以下のものがあります。

  • XUV CCD
    検出器最高の分解能とダイナミックレンジ
  • MCP/CMOS検出器
    最も広い波長範囲とゲート/増倍検出
  • 光電子増倍管検出器
    スキャニングアプリケーション向け

ご要望についてお気軽にお問い合わせください。

特徴

アプリケーション

製品情報

maxLIGHT pro
方式収差補正フラットフィールド分光計
波長範囲1-200nm
SXRXUVVUV
1-20nm5-80nm40-200nm
Dispersion0.2-0.4nm/mm0.5-1.3nm/mm0.9-1.6nm/mm
分解能<0.015nm@10nm<0.028nm@40nm<0.05nm@120nm
光源距離フレキシブル
ディテクターCCD or MCP/CMOS
動作真空度<10^-6mbar (UHVバージョン使用可能)
Noスリット技術使用可能
入射スリットオプション
グレーティングモーター駆動、クロースドループ
フィルターオプション
インターフェースUSB or イーサネット
ソフトウエアWindows UI / Labview, VB, C, C++ SDK
カスタム可能

No-slitデザイン

HP分光計独自の分光計設計は、直接光源イメージングを採用しています。そのため、狭い入射スリットを必要とせず、光収集が最大化されます。従来の分光計アーキテクチャと比較して、分光計検出器に到達する光量は20倍に増加します。また、このアーキテクチャは日常的な運用における堅牢性を大幅に向上させます。

測定例

maxLIGHT XUVによる高次高調波(HHG)の特性評価(左パネル)。アト秒XUVパルスを用いたコインシデンス分光アプリケーションにおける高次高調波の特性評価。
高次高調波は単一光子遷移(青矢印)に起因し、一方、XUVおよび赤外光による二光子遷移は光電子スペクトルにサイドバンドをもたらす(右パネル)。

[参考文献]
J. Vos et al, Orientation-dependent stereo Wigner time delay and electron localization in a small molecule
Science 360 1326-1330 (2018)

maxLIGHT XUVで測定した高強度高調波スペクトル(右パネル)と、カゴメPCFで拡がった基本波25fsパルスのスペクトル(左パネル)。ポンプエネルギーの増加に伴い、ソリトン自己周波数の青方偏移が高強度高調波に及ぼす影響が明確に観察される。
[参考文献]
F. Tani et al, Continuously wavelength-tunable high harmonic generation via soliton dynamics
Opt. Lett. 42 1768-1771 (2017)

信号強度の向上を示す測定結果。同じ信号強度において、maxLIGHT(実線)の分解能は標準的な分光計(点線)と比較して大幅に向上しています。同等の分解能を得るためには、標準的な技術ではスリットを狭くする必要があり、信号強度が大幅に低下します。

[参考文献]
C. Hauri et al, High-Harmonic Radiation for seeding the Swiss Free Electron Laser
Andor Learning (2016)

maxLIGHT XUVで測定した、150kHz繰り返し周波数におけるカットオフ領域における高強度高調波スペクトル。CEPの変化は、いくつかのCEP設定において変調の消失を示しており、孤立したアト秒パルスを示唆している。

[参考文献]
M. Krebs et al, Towards isolated attosecond pulses at megahertz repetition rates
Nature Photonics 7 555–559 (2013)

maxLIGHTの分解能を示す測定結果。示されている高調波スペクトルは、単一のフェムト秒レーザーパルスと固体ターゲットとの相互作用と、それに続くスペクトルフィルタリングによって生成されます。生成プロセスに固有のサブストラクチャは、XUV分光計によって明瞭に分離されています。

[参考文献]
L. Waldecker et al, Focusing of high order harmonics from solid density plasmas
Plasma Phys. Control. Fusion 53 124021 (2011)

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